歧管流体流动优化

凭借在半导体流体和气流应用方面多年的经验，我们帮助许多客户优化了歧管设计，实现性能提升。传统的复杂流体歧管制造方法导致部件的体积和重量较大，这些部件还存在突然流体流动和滞流区，并且容易发生泄漏。半导体固定设备和纳米范围内的性能规格会受到所产生的压降、机械干扰和振动的影响。

增材制造支持创建最佳的流体歧管，可减少压降、机械干扰和振动。利用我们的金属增材解决方案，您还可以避免传统的复杂制造装配，将多个部件整合为一体，从而提高产量和可靠性，并降低人工成本和检查成本。