
将温度保持在毫开尔文 (mK) 范围内是很关键的,因为任何系统干扰都会产生纳米级的影响。通过优化冷却流道和曲面模型,您可以大幅改善表面温度和热梯度,同时减少时间常数,从而提高系统速度和精度。
利用我们在半导体生产和应用领域多年的经验,我们可以帮助您运用增材制造来优化半导体设备的热管理。利用只能通过增材制造实现的独特设计,您可以有效地进行散热,提高系统吞吐量和精度,并改善整体性能。
探索如何使用优化的晶片台热管理来提高半导体光刻设备的吞吐量和质量,了解有关直接金属打印解决方案的更多信息(直接金属打印解决方案能够准确生成高度复杂的设计)。
我们的金属增材解决方案可确保高材料质量和部件精度,并利用稳定的超低氧气水平惰性气体和可实现最佳粒子清洁度的专有工艺来生产部件。这项服务提供的金属不仅满足洁净室要求,而且适用于光刻和晶片加工设备。
如果晶片台的温度和热梯度发生变化,则会对光刻工艺和系统性能产生负面影响,导致变形并影响吞吐量和精度。
通常,使用传统制造方法优化晶片台的热效率和性能需要进行多次设计迭代,而这可能会对项目进度产生负面影响。
利用传统制造(如引入焊缝)提高晶片台复杂性通常会导致部件成本上升。还会导致部件性能和可靠性受损。
强度高、重量轻、生物相容性卓越
用于增材制造的一站式集成软件